ロイターによると、ASMLは金曜日（6月19日）に、同社の極端紫外線（EUV）リソグラフィ装置が中国に出荷されたとする疑惑を否定し、米国当局者が示した懸念と食い違った。オランダの半導体製造装置メーカーは電子メールで、「当社はEUVリソグラフィ装置を中国へ出荷したことは一度もなく、またEUVリソグラフィ装置に特に設計された部品、モジュール、または装置も出荷したことはない」と述べた。米商務長官ハワード・ルトニックはこれに先立ち、こうした先端装置が、米国主導の輸出管理に違反して中国に到達した可能性に懸念を示していた。
オランダ外務省は別途声明を出し、EUのデュアルユース規則および各国の措置に基づく輸出規制の厳格な執行を確認した。同声明では、「これらの規制の対象となるすべての装置、部品、技術には許可が必要であり、必要に応じて介入を行う」としている。
