A Reuters informou que a ASML negou na sexta-feira (19 de junho) as alegações de que as suas máquinas de litografia de ultravioleta extremo (EUV) tenham sido enviadas para a China, contrariando as preocupações levantadas por responsáveis dos EUA. A fabricante neerlandesa de equipamento para semicondutores afirmou, por email, que “nunca enviou quaisquer máquinas de litografia EUV para a China, nem quaisquer partes, módulos ou equipamento especificamente concebidos para máquinas de litografia EUV”. O secretário de Comércio dos EUA, Howard Lutnick, tinha anteriormente manifestado preocupação de que este equipamento avançado pudesse ter chegado à China em violação dos controlos de exportação liderados pelos EUA.
O Ministério dos Negócios Estrangeiros neerlandês emitiu uma declaração separada reafirmando a aplicação rigorosa das regras de exportação ao abrigo do Regulamento da UE sobre Utilização Dual e de medidas nacionais, referindo que “todo o equipamento, partes e tecnologias abrangidos por estas regras exigem uma licença” e que serão tomadas medidas de intervenção quando necessário.