Tin cổng, ngày 24 tháng 4 — Các nhà cung cấp chất quang kháng (photoresist) của Nhật Bản đã cảnh báo Samsung Electronics và SK Hynix về khả năng gián đoạn nguồn nguyên liệu thô sau khi eo biển Hormuz được đóng lại hiệu quả vào đầu tháng 3. Rủi ro xuất phát từ nguồn cung naphtha (naphtha) chặt chẽ hơn, một loại nguyên liệu đầu vào gốc dầu dùng để sản xuất hóa chất chuyên dụng cho chất quang kháng (photoresist), một vật liệu quan trọng trong sản xuất chip.
Giá giao ngay của naphtha Nhật Bản đã tăng vọt gần 92% lên mức 1.190 USD/tấn sau khi eo biển được đóng, buộc 6 trong số 12 trung tâm cracking naphtha của Nhật phải cắt giảm sản lượng. Tình trạng thiếu hụt nguồn cung là nghiêm trọng nhất đối với các dung môi như propylene glycol methyl ether (PGME) và propylene glycol methyl ether acetate (PGMEA). Nhật Bản kiểm soát hơn 70% thị trường chất quang kháng (photoresist) toàn cầu, khuếch đại tác động trong toàn ngành công nghiệp bán dẫn. Các chip tiên tiến được sản xuất bằng công nghệ quang khắc cực tím (extreme ultraviolet) (EUV) phải đối mặt với các ràng buộc chặt chẽ nhất do dung sai vật liệu nghiêm ngặt hơn trong quy trình.
Nút thắt cổ chai bộc lộ các điểm yếu trong chuỗi cung ứng công nghiệp của Nhật Bản. Các nhà cung cấp hóa chất thường phụ thuộc vào nguồn nguyên liệu đầu vào trong nước, khiến việc thay thế nhanh bằng phương án khác bị hạn chế. Các nhà sản xuất chip phải trải qua quy trình tái chứng nhận (requalification) kéo dài một năm cho bất kỳ sự thay thế nguyên liệu đầu vào nào, để lại rất ít chỗ cho các giải pháp trong ngắn hạn, đặc biệt là đối với các dây chuyền sản xuất công nghệ cao.