Gate News 消息，4月24日——日本光阻（photoresist）供應商已警告三星電子與 SK 海力士，指在3月初霍爾木茲海峽（Strait of Hormuz）實質性關閉之後，可能出現原材料供應中斷。風險源自更趨緊縮的萘芴（naphtha）供應；這是一種由油基原料製成、用於生產光阻所需特用化學品的原料，屬於晶片製造中的關鍵材料。
在海峽關閉後，日本萘芴的現貨價格飆升近 92%，至每噸 $1,190，迫使日本12座萘芴裂解中心中的6座下調產量。供應壓力對丙烯二醇甲醚（propylene glycol methyl ether）(PGME) 與丙烯二醇甲醚乙酸酯（propylene glycol methyl ether acetate）(PGMEA) 等溶劑尤為嚴峻。日本掌控全球光阻市場超過 70%，使半導體產業受到的衝擊被進一步放大。使用極紫外線（extreme ultraviolet）(EUV) 光刻所製造的先進晶片，因製程中的材料容差更嚴格，面臨的限制最為緊迫。
這個瓶頸凸顯了日本工業供應鏈的脆弱性。化學品供應商通常依賴國內原料來源，難以快速找到替代方案。晶片製造商若要替換任何原材料，必須進行長達一年的重新認證流程，導致短期解決方案的空間極其有限，尤其是在用於最先進生產線的情況下。
