Как сообщает Reuters, производитель оборудования для полупроводников ASML в пятницу (19 июня) опровергла, что когда-либо поставляла в Китай системы литографии с экстремальным ультрафиолетом (EUV). Компания заявила по электронной почте: «ASML никогда не поставляла в Китай системы литографии EUV, а также не передавала какие-либо компоненты, модули или оборудование, предназначенные специально для систем EUV, в Китай».
Отказ последовал после сообщений о том, что министр торговли США Говард Лутник выразил обеспокоенность возможным попаданием оборудования EUV в Китай в нарушение экспортных ограничений, возглавляемых США. Голландское правительство также подтвердило жесткое соблюдение правил экспорта полупроводниковой продукции в рамках европейского режима контроля товаров двойного назначения и национальных мер, заявив, что «всё оборудование, компоненты и технологии, подпадающие под действие этих регламентов, требуют лицензирования и будут подвергаться вмешательству при необходимости».